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摘要
采用直流电弧等离子喷射(DC arc plasma jet)CVD(chemical vapour deposition)工艺制成的金刚石薄膜，研制成功MSM(metal-semiconductor-metal)型CVD金刚石脉冲辐射探测器.对制作的金刚石薄膜材料及探测器有关性能进行了测量，结果表明，采用Raman shift-1的金刚石薄膜制成的探测器，可满足亚纳秒脉冲辐射探测的要求.由于其独特的物理性能，在制作成本合理的情况下，在脉冲辐射测量中可取代Si-PIN探测器.

关键词:
CVD/

金刚石薄膜/

辐射探测器
Abstract
Detector grade diamond films have been prepared by DC Arc Plasma Jet chemical vapour deposition from CH4-H2 mixtures.Diamond detectors of pulsed radiation based on the films have been developed and preliminarily studied.The responses of the detector to 1.25MeV γ ray and pulsed ultraviolet laser with picosecond width show that this detector has a very fast time-response and about 70% charge collection efficiency.Its further applications will be found in sub-nanosecond pulse measurements.

Keywords:
CVD/

diamond films/

radiation detector
作者及机构信息
欧阳晓平²,

王兰²,

范如玉³,

张忠兵³,

王伟³,

吕反修¹,

唐伟忠¹,

陈广超¹
Authors and contacts
Ouyang Xiao-Ping²,

Wang Lan²,

Fang Ru-Yu³,

Zhang Zhong-Bing³,

Wang Wei³,

Lü Fan-Xiu¹,

Tang Wei-Zhong¹,

Cheng Guang-Chao¹
参考文献

施引文献

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